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半导体等离子设备系列
恒格微波等离子去胶机PSSD2000(PR Ashing)--芯片级
1、微波系统无损传输至腔体远端形成等高密度离子体,等离子随着真空泵抽离气体形成的气流,均匀流动到腔室内,并与加热的晶圆表面光刻胶均匀反应;2、微波等离子体自偏压低,等相刻蚀效果好,同时重型粒子轰击、溅射和注入效应小,最低限度造成光刻胶去除同时对基材的损伤。适用在晶圆基各种工艺生产制造中,如集成电路、...
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